Sobre Cosrx hyaluronic acid hydra power essence 100 ml
Cosrx hyaluronic acid hydra power essence 100 ml es una esencia facial formulada con una alta concentración de ácido hialurónico que ayuda a hidratar y nutrir la piel en profundidad de la firma de cosmética coreana COSRX.
El uso diario de esta esencia facial de ácido hialurónico, proporciona nutrición e hidratación a las capas profundas de la piel y la prepara para los siguientes pasos de cuidado facial.
Contiene una alta pureza de hialuronato de sodio, hidratante natural (ácido hialurónico).
La piel está más suave e hidratada, transformando la piel seca e irregular, sedosa y suave.
Tipo de piel:
Excelente para piel seca, piel normal, piel mixta, piel madura.
Para obtener los mejores resultados, usar junto con la COSRX Hyaluronic Acid Hydra Intensive Cream 100ml
Ingredientes principales:
-Hialuronato de sodio 4,000ppm (ácido hialurónico):
Ayuda a retener más de 1.000 veces el peso del agua en las células de la piel, por lo que es un elemento altamente hidratante al retener el agua en la piel, tu rostro lucirá más suave y con menos arrugas.
Modo de uso:
Mañana y noche, después de limpiar y tonificar tu cara, extiende con suavidad una cantidad suficiente en todo el rostro, cuello y escote con pequeños y suaves toques con las yemas de los dedos hasta su absorción. Tu piel quedará lista para la aplicación del serum.
Ingredientes:
Hippophae Rhamnoides Water, Butylene Glycol, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Sodium Hyaluronate, Panthenol, Ethyl Hexanediol.
Conoce COSRX: COSRX en Kokoro Skin
Mari Cerqueiro (propietario verificado) –
Este serum supone un aporte extra a la crema, se complementan muy bien. Es fresco, ligero, agradable y muy hidratante, al igual que la crema, no tiene olor, por lo que no aturde el olfato.
Lo recomiendo!
Kokoro Skin –
Muchas gracias por tu valoración, siempre es de ayuda para el resto de personas que buscan comentarios de otros clientes. Decirte que al tratarse de una esencia, aún puedes usar un serum después de ella y antes de tu crema habitual.